ASTM F1617-98
用次級離子質譜測定法(SIMS)測定表面鈉,鋁,鉀-硅和EPI襯底的標準試驗方法
Standard Test Method for Measuring Surface Sodium, Aluminum, Potassium, and Iron on Silicon and EPI Substrates by Secondary Ion Mass Spectrometry
- 標準號
- ASTM F1617-98
- 發布
- 1998年
- 總頁數
- 5頁
- 發布單位
- 美國材料與試驗協會
- 替代標準
- ASTM F1617-98(2002)
- 當前最新
- ASTM F1617-98(2002)
- 引用標準
- ASTM E122 ASTM E673
- 適用范圍
- 1.1 本測試方法涵蓋使用二次離子質譜（SIMS）測定鏡面拋光的單晶硅和硅外延基板表面的總鈉、鋁和鉀。該測試方法測量每種金屬的總量，因為該測試方法獨立于金屬的化學或電活性。
1.2 本測試方法可用于所有摻雜劑種類和摻雜劑濃度的硅。
1.3 本測試方法專門設計用于位于晶圓表面約 5 nm 范圍內的表面金屬污染。
1.4 該測試方法對于確定清潔后拋光硅基材的自然氧化物或化學生長氧化物的表面金屬面密度特別有用。
1.5 該測試方法適用于鈉、鋁和鉀面密度在 10 和 10 14 原子/cm 之間的情況。檢測限由空白值或計數率限制決定，并且可能因儀器而異。
1.6 該測試方法是對以下方法的補充：
1.6.1 全反射 X 射線熒光（TXRF），可以檢測較高原子序數 Z 的表面金屬，但對于硅上的鈉、鉀和鋁。
1.6.2 用于化學分析的電子能譜和俄歇電子能譜，可以檢測低至10 12 至10 13 原子/cm 數量級的金屬表面密度。
1.6.3 表面金屬的氣相分解（VPD），然后對VPD殘留物進行原子吸收光譜（AAS）或電感耦合等離子體質譜（ICP-MS）分析，其中金屬檢測限為10至10 10 個原子/cm 2 。沒有可用的空間信息，金屬的 VPD 預富集取決于每種金屬的化學性質。
1.7 本標準并不旨在解決與其使用相關的所有安全問題（如果有）。本標準的使用者有責任在使用前建立適當的安全和健康實踐并確定監管限制的適用性。