帕克原子力顯微鏡將原子力顯微鏡與白光干涉測量技術相結合,重磅推出強大的新型半導體工具
世界領先的原子力顯微鏡制造商帕克原子力顯微鏡公司( Park Systems,以下稱帕克公司)宣布推出 Park NX-Hybrid WLI, 這是首個將原子力顯微鏡 (AFM) 與白光干涉儀 (WLI) 輪廓測量技術聯用相結合的半導體機臺。 白光干涉測量 (WLI) 是一種無損傷、非接觸式的光學技術,用于生成高保真的2D 和 3D 的輪廓模型,現在廣泛用于半導體生產質量保證。 帕克公司推出 的Park NX-Hybrid WLI 作為一種強大的半導體計量工具,將 AFM 和 WLI 的核心優勢整合到一個最佳系統中。
Park NX-Hybrid WLI是一款強大的半導體計量工具,作為首個原子力顯微鏡 (AFM) 與白光干涉儀 (WLI) 輪廓測量技術相結合的機臺,Park NX-Hybrid WLI充分將 AFM 和 WLI 的核心優勢整合到一個最佳系統中。
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“Park NX-Hybrid WLI 為需要大面積掃描和納米級計量的半導體應用提供了全面互補的計量解決方案。”帕克公司業務發展執行副總裁 Ryan Yoo 博士評論道。“隨著設備制造商對納米計量要求的不斷提高,WLI 和 AFM革命性的設計和無縫銜接充分顯示了帕克公司致力于為客戶提供優質解決方案的決心。
整合系統中,基于Park NX-Wafer而成的Park AFM,是業界領先的半導體及相關設備的自動化原子力顯微鏡系統,能夠進行線上生產質量保證和研發。 組合而成的AFM/WLI系統使用 WLI模塊能夠在超廣的區域提供高通量成像,并使用AFM在需要的區域提供亞埃高度分辨率的納米級計量。其中“熱點檢測”技術能快速定位高分辨率AFM的缺陷位置。此系統可以使用該技術比較和參考目標樣本區域的圖像來檢測圖案結構的缺陷。
Park WLI 模塊支持白光干涉測量 (WLI) 和相移干涉測量 (PSI) 模式。 PSI 模式通過電動濾光片更換器啟用,兩個物鏡可以由電動鏡頭自動更換,支持 2.5倍、10倍、20倍、50倍的物鏡放大倍率,并具有 100x CMOS 的相機功能。
Park NX-Hybrid WLI 糅合了兩種互補的技術,是一個全面綜合性自動化計量系統。與兩個獨立的系統相比,該系統可有效節約成本。
“與傳統上獨立的 WLI 和 AFM 系統不同,Park NX-Hybrid WLI 以無縫銜接的方式實現了更多功能,并以極低的成本創建了一個完整的集成工具,”Park Americas 總經理 Stefan Kaemmer 博士評論道。“將兩種工具安裝在同一個支架上并由一個 EFEM 饋送,該系統創建了完全集成和可交換的數據,減少了 '晶圓廠占地面積' 并提高了更大面積的吞吐量。"
單獨的 WLI 已經不能滿足特定的需要,應運而生的Park NX-Hybrid WLI可適用于更高分辨率和精確度的應用,例如高級化學機械拋光 (CMP) 計量和監測、凹陷、腐蝕和邊緣過度腐蝕 (EOE) ,膜厚,柱高,孔結構和模具比較。除此之外,它還能應用于包括硅通孔 (TSV) 、微凸點測量重分布層 (RDL) 測量和光刻膠殘留檢測在內的高級封裝。
新款Park NX-Hybrid機臺是帕克公司今年計劃推出的一系列混合計量產品的一部分,用以提高和改善原子力顯微鏡在各大工業和學術研究應用中的利用率。
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關于帕克原子力顯微鏡公司:
帕克原子力顯微鏡是全球第一個推出商業原子力顯微鏡產品的上市公司。帕克公司成立30多年來,始終致力于納米領域的形貌和力學測量以及半導體先進制程工藝的計量的新技術新產品的開發。帕克獨有的技術是將XY和Z掃描器分離,實現探針與樣品間的真正非接觸,避免形貌掃描過程中因探針磨損帶來的圖像失真,快速成像還可以大大提高測試效率,降低實驗測試成本。帕克公司成立至今,致力于新產品和新技術的開發,為客戶解決各種技術難題,提供最完善的解決方案。Park公司的原子力顯微鏡以高尖端產品質量和快捷優質的售后服務受到廣大客戶的認可。 為了給客戶提供高效便捷的售后服務,帕克公司在中國區建立有售后服務中心并配有備件倉庫。